熱門搜索：
代理日本品牌：OTSUKA大塚電子（薄膜測厚儀、相位差膜設(shè)備等）、USHIO牛尾點(diǎn)光源、CCS檢查光源、Aitec艾泰克、REVOX萊寶克斯、ONOSOKKI小野測器、YAMATO雅馬拓、KOSAKA小坂臺階儀、SEN特殊光源、TSUBOSAKA壺坂電機(jī)、NEWKON新光、TOKISANGYO東機(jī)產(chǎn)業(yè)、tokyokeiso東京計裝、leimac雷馬克、MIKASA米卡薩勻膠機(jī)、COSMO科斯莫、SAKURAI櫻井無塵紙、TOE東京光電子、EYE巖崎UV燈管、SANKO山高、HOYA豪雅光源、日本IMV愛睦威地震儀、HOKUYO北陽電機(jī)、SAKAGUCHI坂口電熱、ThreeBond三鍵膠水等.
產(chǎn)品中心
-
CEDAR思達(dá)
-
Stucchi思多奇
-
NITTO KOHKI日...
-
Sankei
-
KYOWA協(xié)和工業(yè)
- DIT東日技研
- AITEC艾泰克
-
SIGMAKOKI西格瑪...
- REVOX萊寶克斯
- CCS 希希愛視
- SIMCO思美高
- POLARI0N普拉瑞
- HOKUYO北陽電機(jī)
- SSD西西蒂
- EMIC 愛美克
- TOFCO東富科
-
打印機(jī)
- HORIBA崛場
- OTSUKA大冢電子
- MITAKA三鷹
- EYE巖崎
- KOSAKA小坂
-
SAGADEN嵯峨電機(jī)
- TOKYO KEISO東...
- takikawa 日本瀧...
- Yamato雅馬拓
- sanko三高
- SEN特殊光源
-
SENSEZ 靜雄傳感器
- marktec碼科泰克
- KYOWA共和
- FUJICON富士
- SANKO山高
-
Sugiyama杉山電機(jī)
-
Osakavacuum大...
-
YAMARI 山里三洋
- ACE大流量計
- KEM京都電子
- imao今尾
- AND艾安得
- EYELA東京理化
- ANRITSU安立計器
- JIKCO 吉高
- NiKon 尼康
- DNK科研
- Nordson諾信
- PISCO匹斯克
- NS精密科學(xué)
- NDK 日本電色
-
山里YAMARI
- SND日新
-
Otsuka大塚電子
- kotohira琴平工業(yè)
- YAMABISHI山菱
- OMRON歐姆龍
- SAKURAI櫻井
- UNILAM優(yōu)尼光
-
氙氣閃光燈
-
UV反轉(zhuǎn)曝光系統(tǒng)
-
UV的水處理
-
檢測系統(tǒng)
-
光照射裝置
-
點(diǎn)光源曝光
-
變壓型電源供應(yīng)器
-
超高壓短弧汞燈
-
UV光洗凈
-
UV曝光裝置
-
uv固化裝置
-
紫外可見光光度計
產(chǎn)品展示
-
SLS-6500HL OTSUKA大冢- 靜態(tài)光散射光度計 可以測量使用靜光散射法的**分子量、慣性半徑、**膽量系數(shù)。 OTSUKA大冢- 靜態(tài)光散射光度計SLS-6500HLOTSUKA大冢- 靜態(tài)光散射光度計SLS-6500HLOTSUKA大冢- 靜態(tài)光散射光度計SLS-6500HL
-
FPAR-1000AS OTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑 FPAR和自動取景器的組合中，關(guān)于50檢體的試料，可以進(jìn)行粒子直徑的自動測量。 樣品量為1ml，可以使用廉價的電筒進(jìn)行測量。 OTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑FPAR-1000ASOTSUKA大冢- 自動桑普勒濃厚系顆粒直徑FPAR-100
-
FPAR-1000 OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統(tǒng) 從稀薄系到濃厚系，在廣泛的濃度區(qū)域中的粒子直徑測量 *適合分析膠體分散液和拉拉力的分散狀態(tài)。 OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統(tǒng)FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統(tǒng)FPAR-1000OTSUKA大冢- 濃厚系顆粒直徑系統(tǒng)FPAR-1000
-
FDLS-3000 OTSUKA大冢- 光纖光學(xué)動態(tài)光散射光度計 根據(jù)固體激光和高靈敏度檢測器（冷卻型光電子倍增管），可以測量0.5nm～5000 nm的粒子直徑和粒子直徑分布（粒徑·粒徑分布）。OTSUKA大冢- 光纖光學(xué)動態(tài)光散射光度計FDLS-3000OTSUKA大冢- 光纖光學(xué)動態(tài)光散射光度計FDLS-3000OTSUKA大冢- 光纖光學(xué)動態(tài)光散射光度計FDLS-3000
-
DLS-6500series OTSUKA大冢- 動態(tài)光散射光度計 可測量使用動態(tài)光散射法的粒子直徑、粒子直徑分布（粒徑、粒徑分布）。 OTSUKA大冢- 動態(tài)光散射光度計DLS-6500seriesOTSUKA大冢- 動態(tài)光散射光度計DLS-6500seriesOTSUKA大冢- 動態(tài)光散射光度計DLS-6500series
-
ELSZ-2000S OTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統(tǒng)ELSZ-2000SOTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統(tǒng)ELSZ-2000SOTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統(tǒng)ELSZ-2000S
-
nanoSAQLA OTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統(tǒng)nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統(tǒng)nanoSAQLAOTSUKA大冢- 多檢體納米粒子直徑測量系統(tǒng)nanoSAQLA
-
DLS-8000series OTSUKA大冢- 動態(tài)光散射光度計 用動態(tài)光散射法的粒子直徑·粒子直徑分布（粒徑·粒徑分布）測量和使用靜光散射法的優(yōu)良分子量·慣性半徑·**膽量系數(shù)的測量。OTSUKA大冢- 動態(tài)光散射光度計DLS-8000seriesOTSUKA大冢- 動態(tài)光散射光度計DLS-8000series
-
ELSZ-2000S OTSUKA大冢- 電位測量系統(tǒng) OTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統(tǒng)ELSZ-2000SOTSUKA大冢- 粒徑·分子量測量系統(tǒng)ELSZ-2000S
-
它是一種可以使用小角度光散射方法在原位實時分析聚合物和薄膜結(jié)構(gòu)的設(shè)備。與使用 X 射線或中子的設(shè)備相比，可以評估更大的結(jié)構(gòu)（微米級）。
-
可以使用動態(tài)光散射法和使用靜態(tài)光散射法測量優(yōu)良分子量/慣性半徑/**維里系數(shù)的粒度/粒度分布（粒度/粒度分布）。
-
HS-1000 OTSUKA大冢-高靈敏度分光放射輝度計 從低亮度到高亮度可以高速·高精度的測量的分光輻射亮度計。 使用電子冷卻型的線性陣列傳感器，通過大冢電子獨(dú)自的分光光學(xué)設(shè)計和信號處理電路的寬亮度范圍和波長域，實現(xiàn)了低噪聲的高精度的測量。OTSUKA大冢- 高靈敏度分光放射輝度計HS-1000OTSUKA大冢- 高靈敏度分光放射輝度計HS-1000OTSUKA大冢- 高靈敏度分光放射輝度
-
MCPD-9800/6800 OTSUKA大冢- 多通道分光器MCPD-9800/6800OTSUKA大冢- 多通道分光器MCPD-9800/6800OTSUKA大冢- 多通道分光器MCPD-9800/6800
-
它是一種延遲測量設(shè)備，支持所有類型的薄膜，例如用于 OLED 的偏光板、層壓延遲膜和帶有 IPS 液晶延遲膜的偏光板。 實現(xiàn)與超高Re.60000 nm兼容的高速、高精度測量。 可以“無損、無剝離”地測量薄膜的層壓狀態(tài)。 此外，它還配備了簡單的軟件和校正功能，支持因樣品重新定位而導(dǎo)致的錯位，可輕松實現(xiàn)高精度測量。
-
它是一種可以在薄膜生產(chǎn)現(xiàn)場在線測量薄膜厚度的設(shè)備。 通過將開創(chuàng)的光譜干涉技術(shù)與新開發(fā)的高精度膜厚計算處理技術(shù)相結(jié)合，可以以至少0.01的測量間隔測量寬度為500mm（使用一臺時）的膜厚秒。
-
日本大冢顯微分光OPTM SERIES膜厚儀OPTM-A3 日本大冢顯微分光OPTM SERIES膜厚儀OPTM-A3 日本大冢顯微分光OPTM SERIES膜厚儀OPTM-A3
-
日本大冢顯微分光膜厚儀OPTM SERIESOPTM-A2 日本大冢顯微分光膜厚儀OPTM SERIESOPTM-A2 日本大冢顯微分光膜厚儀OPTM SERIESOPTM-A2
-
日本大冢OPTM SERIES顯微分光膜厚儀OPTM-A1 日本大冢OPTM SERIES顯微分光膜厚儀OPTM-A1 日本大冢OPTM SERIES顯微分光膜厚儀OPTM-A1
-
FE-5700 OTSUKA大冢-膜厚測量系統(tǒng) OTSUKA大冢-膜厚測量系統(tǒng)FE-5700OTSUKA大冢-膜厚測量系統(tǒng)FE-5700
-
FE-3700 OTSUKA大冢-膜厚測量系統(tǒng) OTSUKA大冢-膜厚測量系統(tǒng)FE-3700OTSUKA大冢-膜厚測量系統(tǒng)FE-3700OTSUKA大冢-膜厚測量系統(tǒng)FE-3700
-
RH50 OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統(tǒng) 對應(yīng)微LED等微小樣品的配光測定系統(tǒng)RH50.。 與光學(xué)模擬軟件的聯(lián)合是可能的，可以簡單地高速取得2π空間全方位的光線。50×50mm尺寸以上請看GP-7 series。OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統(tǒng)RH50OTSUKA大冢-高速近場配光測量系統(tǒng)RH50
-
SF-3Rθ OTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統(tǒng) *多可以快速映射12inch晶片OTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統(tǒng)SF-3RθOTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統(tǒng)SF-3RθOTSUKA大冢-高速晶圓厚度映射系統(tǒng)SF-3Rθ
-
SF-3Rθ OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng) 搭載模式匹配功能，是X-Y定位精度2um以下的系統(tǒng)。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3RθOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3RθOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3Rθ
-
SF-3AAF OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng) 搭載模式匹配功能，是X-Y定位精度2um以下的系統(tǒng)。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AAFOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AAFOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AAF
-
SF-3AA OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng) 搭載模式匹配功能，是X-Y定位精度2um以下的系統(tǒng)。OTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AAOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AAOTSUKA大冢-晶片厚度映射系統(tǒng)SF-3AA
-
GS-300 OTSUKA大冢-負(fù)載端口對應(yīng)膜厚測量系統(tǒng) 搭載模式匹配功能，X-Y定位精度在2um以下的系統(tǒng)。OTSUKA大冢-負(fù)載端口對應(yīng)膜厚測量系統(tǒng)GS-300OTSUKA大冢-負(fù)載端口對應(yīng)膜厚測量系統(tǒng)GS-300OTSUKA大冢-負(fù)載端口對應(yīng)膜厚測量系統(tǒng)GS-300
-
SF-3/200 OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計 用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實時、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/200OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/200OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/200
-
SF-3/300 OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計 用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實時、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/300
-
SF-3/1300 OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計 用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實時、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/1300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/1300OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/1300
-
SF-3/BB OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計 用非接觸的溫哈和樹脂的超高速實時、高精度的測量。OTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/BBOTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/BBOTSUKA大冢-超高速分光干擾式厚度計SF-3/BB
-
AT-1500 OTSUKA大冢-非接觸光學(xué)厚度計 OTSUKA大冢-非接觸光學(xué)厚度計AT-1500OTSUKA大冢-非接觸光學(xué)厚度計AT-1500OTSUKA大冢-非接觸光學(xué)厚度計AT-1500
-
AT-5000 OTSUKA大冢-非接觸光學(xué)厚度計 OTSUKA大冢-非接觸光學(xué)厚度計AT-5000OTSUKA大冢-非接觸光學(xué)厚度計AT-5000OTSUKA大冢-非接觸光學(xué)厚度計AT-5000
-
OTSUKA大冢-線掃描膜厚計 在線薄膜生產(chǎn)現(xiàn)場能夠?qū)Ρ∧さ哪ず襁M(jìn)行全幅、全長測量的裝置。 通過在獨(dú)自的分光干涉法中組合新開發(fā)的高精度膜厚演算處理技術(shù)，以每*短0.01秒的測定間隔，可以進(jìn)行500mm寬(1臺使用時)的薄膜的膜厚測定。OTSUKA大冢-線掃描膜厚計OTSUKA大冢-線掃描膜厚計
-
FE-5000S OTSUKA大冢-分光器 除了能夠高精度的薄膜解析的分光中，通過實現(xiàn)測量角度的自動可變機(jī)構(gòu)，也對應(yīng)于所有種類的薄膜。除以往的旋轉(zhuǎn)檢光子法之外，通過設(shè)置相位差版的自動脫穿機(jī)構(gòu)，提高了測定精度。OTSUKA大冢-分光器FE-5000SOTSUKA大冢-分光器FE-5000SOTSUKA大冢-分光器FE-5000S
